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凈化工程
  • 半導體凈化車間裝修設計:弱電、智能化、純水、電氣、廢水處理...
半導體凈化車間裝修設計:弱電、智能化、純水、電氣、廢水處理...

隨著各類產品生產工藝技術、產品性能的不斷研究開發(fā)、升級和各種使用要求,工業(yè)裝修對空氣潔凈度及污染物的控制要求不斷變化、提高,尤其是半導體集成電路的高速發(fā)展是潔凈度等級的擴大和控制微粒粒徑日益嚴格的重要標志。在上一次的凈化車間裝修設計案例分享里,為大家詳析了半導體凈化車間裝修設計:結構維護、暖通、特種氣體、空壓...接下來CEIDI將為您詳解電氣工程、弱電系統(tǒng)工程、智能平臺、純水工程及廢水處理工程。 ...

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內容介紹

隨著各類產品生產工藝技術、產品性能的不斷研究開發(fā)、升級和各種使用要求,工業(yè)裝修對空氣潔凈度及污染物的控制要求不斷變化、提高,尤其是半導體集成電路的高速發(fā)展是潔凈度等級的擴大和控制微粒粒徑日益嚴格的重要標志。在上一次的凈化車間裝修設計案例分享里,為大家詳析了半導體凈化車間裝修設計:結構維護、暖通、特種氣體、空壓...接下來CEIDI將為您詳解電氣工程、弱電系統(tǒng)工程、智能平臺、純水工程及廢水處理工程。


半導體凈化車間設計


六、半導體凈化車間廢氣工程

由于半導體工藝對操作室清潔度要求特別高,通常使用風機抽取工藝過程中會發(fā)的各類廢氣,因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發(fā)為主。表中給出了不同生產工藝排放的廢氣組成。這些廢氣排放主要可以分為四類:酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體。

生產廢氣排放源及組成表

半導體凈化車間


對酸性氣體、堿性氣體的處理一般都采用濕式洗滌塔技術。

對于有機廢氣采用吸附、焚燒或兩者相結合的處理辦法。因為半導體工藝過程中有機廢氣具有排放流量大(通常大于11039m3/小時)和濃度低(通常小于25ppmv)的特點,使用其他的處理技術難以達到令人滿意的處理效率。沸石濃縮轉輪后再吸附或焚燒。


七、半導體凈化車間電氣工程

空調動力電工程:統(tǒng)計總用電量約830KW,空調用電約330KW

動力(鍍鋅線槽)沿墻體及天花敷設,再分至車間及設備電箱,安裝在樓板下。主電纜采用YJV型號。


八、半導體凈化車間弱電系統(tǒng)工程

高清視頻監(jiān)控系統(tǒng)空調動力電工程:統(tǒng)計總用電量約830KW,空調用電約330KW

動力(鍍鋅線槽)沿墻體及天花敷設,再分至車間及設備電箱,安裝在樓板下。主電纜采用YJV型號。


九、半導體凈化車間智能平臺

潔凈系統(tǒng)中的風量控制采用文丘里閥門,實時監(jiān)控流量及狀態(tài),可在線診斷。并可以維持房間壓力、溫度、濕度的平穩(wěn)可靠。中控室中把空調、特氣、純水、監(jiān)控、房間溫濕度等參數集成管理、顯示、儲存,并對數據進行打印輸出及溯源查找。并經設備輸出在參觀通道播放,方便參觀。


十、半導體凈化車間純水工程

設備產水能力:

RO系統(tǒng):一級RO反滲透產水量≥8m3/h(水溫保證在25℃時);二級RO反滲透產水量≥6m3/h(水溫保證在25℃時);

EDI系統(tǒng):EDI產水量≥5m3/h(水溫在25℃時);

終端拋光混床產水能力為:≥5m3/H(水溫保證在25℃時);

設備產水水質指標:

終端拋光混床產水水質為:≥18.0MΩ.cm(水溫保證在25℃時,測點在拋光混床出口3米內,95%時間)

其它技術指標參照我國的電子級水的技術指標(GB11446.1-1977EW-1

半導體凈化車間

由于設備用水的級別各不相同,可以在本設計流程中的某段引出合適的使用點即可。對于超純水必須采用UPVC材質(因金屬管道會析出離子),特別對于圓晶的生產,超純水會對額定的離子限值嚴格,所以采用進口的UPVC純水管道對產品質量有保證。


十一、半導體凈化車間廢水處理工程

半導體制造及封裝測試的各個工藝步驟都有大量的廢水產生,主要以酸堿廢水、含氟廢水、有機廢水為主。

⑴酸堿廢水

對于酸堿廢水處理前的pH值一般在3-11范圍內,時間間歇性強。在排放水體或進行生物處理或化學處理之前,必須進行中和,使廢水pH值達到6.5~8.5。但對于工業(yè)廢水中酸堿物質濃度高達3%~5%的廢水,應首先考慮其回收。

⑵含氟廢水

含氟廢水的治理技術主要為化學沉淀法,即投加化學藥品形成氟化物沉淀或氟化物被吸附于所形成的沉淀物中而共沉淀,然后分離固體沉淀物即可除去氟化物。

⑶有機廢水

依靠物理法、化學法很難處理有機廢水,通常采用生化法處理。

⑷金屬廢水

金屬廢水的處理主要用化學沉淀法,廢水中含有危害性很大的一些重金屬和某些類金屬(如砷)。

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